La pulverització catódica de magnetró reactiu és una tècnica madura per dipositar una capa fina composta sobre una àmplia gamma de substrats com a capa superior o com a capa intermèdia en un recobriment multicapa. L'abast de "prima" va des d'uns pocs nanòmetres fins a diversos micròmetres.
Per què brota un magnetró?
La pulverització de magnetrons és el procés de col·lisió entre les partícules incidents i els objectius … La polsada de magnetrons augmenta la densitat del plasma introduint un camp magnètic a la superfície del càtode objectiu i utilitzant les limitacions de el camp magnètic de les partícules carregades per augmentar la velocitat de pols.
Què s'entén per sputtering reactiu?
La pulverització catòdica reactiva és un procés que permet dipositar compostos introduint un gas reactiu (normalment oxigen o nitrogen) al plasma que normalment està format per un gas inert com ara argó (el més comú), xenó o criptó.
Com funciona la polverització de magnetrons?
La pulverització de magnetrons és una tecnologia de deposició que implica un plasma gasós que es genera i es limita a un espai que conté el material a dipositar: l'"objectiu". … Aquestes col·lisions causen una repulsió electrostàtica que "elimina" els electrons dels àtoms de gas que es fan catofon, provocant ionització.
Per què brota la RF?
RF o Sputtering per radiofreqüència és la tècnica que consisteix en alternar el potencial elèctric del corrent en l'entorn de buit a freqüències de ràdio per evitar que s'acumuli una càrrega en determinats tipus de materials objectiu de pols., que amb el pas del temps pot provocar un arc en el plasma que emet gotes …
